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六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。OPV系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無(wú)水、無(wú)氧、無(wú)塵的超純環(huán)境中，PVD與Glove box硬件無(wú)縫對(duì)接，操控融合一體，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號(hào)

六源有機(jī)無(wú)機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

主要特點(diǎn)

1、樣品在鍍膜過(guò)程中，帶有烘烤加熱功能，高烘烤加熱溫度為：室溫～180℃，測(cè)溫控溫。

2、設(shè)備帶有斷水?dāng)嚯娺B鎖保護(hù)報(bào)警裝置、防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為600×450×450mm，不銹鋼材料，方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板。
2、抽氣系統(tǒng)：采用分子泵+機(jī)械泵抽氣系統(tǒng)：
真空度：鍍膜室的極限真空≤6×10-4Pa；
系統(tǒng)漏率≤1×10-7PaL/s。

3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：
   有機(jī)源蒸發(fā)源4個(gè)，容積5ml，2臺(tái)蒸發(fā)電源，可測(cè)溫控溫，加熱溫度400℃，功率0.5Kw；
   擋板：蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式，控制其開啟；
   安裝：蒸發(fā)源安裝在真空室的下底上。

4、樣品架系統(tǒng)：
樣品架可放置大小為Φ120mm的樣品，載玻片；

樣品架可旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速度為：0～30轉(zhuǎn)/分；
安裝：樣品安裝在真空室的上蓋上，蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上，向上蒸發(fā)鍍膜，蒸發(fā)源都帶有擋板裝置。

7、 5、無(wú)機(jī)蒸發(fā)源2套、容積5ml，2臺(tái)蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2Kw；
8、 6、石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999Å。