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鑽石CMP修整器

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更新時(shí)間:2022-04-07 10:50:01瀏覽次數(shù):658

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

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詳細(xì)介紹

用途:用於半導(dǎo)體加工行業(yè)晶圓拋光墊的修整。

 

特點(diǎn):

  1. 用單層釺焊工藝,鑽石與釺料以化學(xué)鍵結(jié)合,鑽石不脫落。
  2. 鑽石露出量高,露出一致。
  3. 鑽石排列有序,利用率高,修整速度快。
  4. 使用壽命長(zhǎng)。
  5. 加工平面度好。

 

標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格列表

型號(hào)規(guī)格

外徑

mm

鑽石層寬度

mm

厚度

mm

鑽石分布

pcs/cm 2

鑽石尺寸

塗層種類(lèi)

?108x6.6T

108

25

6.6

156±5

#60/70,70/80

Ni

?50x8.3T

50

/

8.3

156±5

#60/70,70/80

Ni

?20x7.3T

20

/

7.3

156±5

#60/70,70/80

Ni

 

釺焊及應(yīng)用示意圖

亦可依據(jù)客人提供資料、圖面等資訊進(jìn)行客製

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