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當(dāng)前位置:沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>化學(xué)氣相沉積設(shè)備(PECVD等)>> 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌 沈陽科晶/KEJING
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地
聯(lián)系方式:張先生查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間:2021-03-15 15:31:08瀏覽次數(shù):289次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 機(jī)床商務(wù)網(wǎng)1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV
1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV
帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV
高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
產(chǎn)品詳細(xì)介紹: 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng),主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成。粉末在振動(dòng)樣品臺(tái)上振動(dòng)翻滾,通過濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成核殼結(jié)構(gòu)。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。(更新日期2019.1.10)
產(chǎn)品型號(hào) | 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:需要(可選配我公司冷水機(jī))。 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥) 4、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×700mm,,承重50kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
產(chǎn)品特點(diǎn) | 1、可對(duì)粉體材料進(jìn)行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時(shí)粉體材料在振動(dòng)樣品臺(tái)上翻滾,達(dá)到粉體表面均勻包覆 2、設(shè)備小巧可在手套箱內(nèi)使用,可處理樣敏感性材料 |
技術(shù)參數(shù) | 1、輸入電壓:220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、大電流:150 mA . 4、濺射頭:2英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭 5、振動(dòng)樣品臺(tái): 樣品臺(tái)振動(dòng)頻率可調(diào)節(jié):6-33Hz 樣品臺(tái)直徑為50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度: ①1.0E-2 Torr(采用機(jī)械泵),可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶大真空度可達(dá)到< 4.0E-6 Torr(分子泵系統(tǒng)抽時(shí)間12小時(shí),腔體進(jìn)行烘烤) 7、CE認(rèn)證 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 外形尺寸:長460×寬330×高810mm 凈重:20Kg |
注意事項(xiàng) | 警告: 1、濺射頭與高壓電源相連接,操作時(shí)必須佩帶防護(hù)手套 2、濺射前必須確保靶材,濺射頭,基片和樣品臺(tái)清潔,需要用砂紙和乙醇來清洗,Al或是Ni靶每次使用時(shí)都必須清洗和處理 注意:粉末樣品必須干燥和分散 |
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